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제품 세부 정보

Created with Pixso. Created with Pixso. 상품 Created with Pixso.
단일 크리스탈 기판
Created with Pixso. LaAlO3 란탄 알루미네이트 고온 초전도 및 거대 자기 저항 얇은 필름을 위한 단일 크리스탈 기판

LaAlO3 란탄 알루미네이트 고온 초전도 및 거대 자기 저항 얇은 필름을 위한 단일 크리스탈 기판

브랜드 이름: Crystro
모델 번호: SCR-2026-27-01
배달 시간: 5~6주
지불 조건: T/T, 서부 동맹, , 페이팔
자세한 정보
원래 장소:
중국
분자식:
LaAlO3
성장 방법:
초크랄스키
결정 구조:
육각형 결정 시스템
격자 상수:
a=5.357A c=13.22A
모스 경도:
6.5
밀도:
6.52g/cm3
녹는점:
2080°C
유전 상수:
ε=21
열팽창 계수:
10x10-6/K
TanS 손실:
~3x10-4@300K,~0.6x10-4@77K
강조하다:

LaAlO3 단결정 기판

,

초전도체용 란탄알루미네이트 기판

,

고온초전도박막 기판

제품 설명

고온초전도 및 거대자기저항박막용 LaAlO3 란탄알루미네이트 단결정 기판

 

란탄알루미늄산화물(LaAlO3)은 고온 초전도 단결정 기판 물질이다. 고온 초전도박막 및 거대자성박막의 에피택셜 성장을 위한 우수한 기판재료입니다. 우수한 유전 특성으로 인해 저손실 마이크로파 증폭기 및 유전 공진 장치 제작에 적합합니다.

크기 Φ76.2mm
두께 0.5mm 또는 고객 맞춤화
세련 이중 또는 단일 던지기
수정광학 <100>,<110>,<111>
표면 거칠기 Ra Ra≤1nm
결정질 정밀도 ±0.2°
포지셔닝 가장자리 정확도 2°(1° 이내 맞춤 설정 가능)

란타늄 알루미네이트(LaAlO3) 단결정은 일종의 산업용 대형 HTS 박막 기판 단결정 재료입니다. LaAlO3 결정은 다양한 종류의 페로브스카이트 구조 재료와 잘 어울리며 고온 초전도막 및 거대 자기 저항막의 에피택셜 성장을 위한 기판 재료입니다. 동시에 란타늄 알루미늄 결정은 유전율이 낮고 마이크로파 유전 성능이 우수하므로 저손실 마이크로파 증폭기 장치 및 유전 공진 응용 분야에 적합합니다.

 

주요 특징:

낮은 유전 손실

격자무늬가 잘 어울리네

작은 열팽창 계수

우수한 화학적 안정성

좋은 열 안정성

일반적인 응용 분야:

고온초전도박막연장기판

거대한 자기 필름 외부 라이닝

마이크로파 증폭 및 유전 공명

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단일 크리스탈 기판
Created with Pixso. LaAlO3 란탄 알루미네이트 고온 초전도 및 거대 자기 저항 얇은 필름을 위한 단일 크리스탈 기판

LaAlO3 란탄 알루미네이트 고온 초전도 및 거대 자기 저항 얇은 필름을 위한 단일 크리스탈 기판

브랜드 이름: Crystro
모델 번호: SCR-2026-27-01
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Crystro
모델 번호:
SCR-2026-27-01
분자식:
LaAlO3
성장 방법:
초크랄스키
결정 구조:
육각형 결정 시스템
격자 상수:
a=5.357A c=13.22A
모스 경도:
6.5
밀도:
6.52g/cm3
녹는점:
2080°C
유전 상수:
ε=21
열팽창 계수:
10x10-6/K
TanS 손실:
~3x10-4@300K,~0.6x10-4@77K
배달 시간:
5~6주
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LaAlO3 단결정 기판

,

초전도체용 란탄알루미네이트 기판

,

고온초전도박막 기판

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고온초전도 및 거대자기저항박막용 LaAlO3 란탄알루미네이트 단결정 기판

 

란탄알루미늄산화물(LaAlO3)은 고온 초전도 단결정 기판 물질이다. 고온 초전도박막 및 거대자성박막의 에피택셜 성장을 위한 우수한 기판재료입니다. 우수한 유전 특성으로 인해 저손실 마이크로파 증폭기 및 유전 공진 장치 제작에 적합합니다.

크기 Φ76.2mm
두께 0.5mm 또는 고객 맞춤화
세련 이중 또는 단일 던지기
수정광학 <100>,<110>,<111>
표면 거칠기 Ra Ra≤1nm
결정질 정밀도 ±0.2°
포지셔닝 가장자리 정확도 2°(1° 이내 맞춤 설정 가능)

란타늄 알루미네이트(LaAlO3) 단결정은 일종의 산업용 대형 HTS 박막 기판 단결정 재료입니다. LaAlO3 결정은 다양한 종류의 페로브스카이트 구조 재료와 잘 어울리며 고온 초전도막 및 거대 자기 저항막의 에피택셜 성장을 위한 기판 재료입니다. 동시에 란타늄 알루미늄 결정은 유전율이 낮고 마이크로파 유전 성능이 우수하므로 저손실 마이크로파 증폭기 장치 및 유전 공진 응용 분야에 적합합니다.

 

주요 특징:

낮은 유전 손실

격자무늬가 잘 어울리네

작은 열팽창 계수

우수한 화학적 안정성

좋은 열 안정성

일반적인 응용 분야:

고온초전도박막연장기판

거대한 자기 필름 외부 라이닝

마이크로파 증폭 및 유전 공명